性能特點如下：ETD-2000C 濺射蒸碳儀是依據(jù)二(DC)直流濺射原理設計而成的，*簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。同時增加了熱蒸發(fā)附件，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。
滿足電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣制備和非導體材料實驗電制作。
在 ETD-2000/3000 離子濺射儀基礎上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣制備。
技術參數(shù)：*配置參數(shù)如下：儀器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H）
空樣室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）
靶（上部電）： 50mm×0.1mm（D×H）
樣臺： 50mm (D)
操作空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar
工作電壓： 0-1600V (DC)可調(diào)
濺射電流： 0-50mA
濺射定時： 1-9999S
蒸碳電流 0-10A(AC)
空泵： 4升兩機械旋轉(zhuǎn)泵（限空2×10-2mbar）
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